Intel работает над преодолением ограничений современных техпроцессов

Компания Intel инвестировала средства в компанию Tela, занятую разработкой технологий, способных облегчить перевод производства микросхем на нормы 45-нм техпроцесса. В частности, специалисты Tela работают над обходом ограничений, имеющихся в традиционной литографии.

Литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем (ИС). Постоянная миниатюризация элементов ИС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют 65 нм, но все большее число производителей переходят на 45-нанометровый процесс.

Предполагается, что переход на 45-нанометровый техпроцесс будет сопровождаться внедрением ряда новых методик производства. Речь идет о технологии иммерсионной литографии, диэлектриках со сверхнизкой диэлектрической проницаемостью, а также технологии "растяжения" транзисторов. В настоящее время при производстве процессоров применяется традиционная литография, которая, в силу ряда ограничений, препятствует внедрению новых техпроцессов с нормами менее 65 нанометров. Как ожидается, переход на иммерсионную литографию позволит решить данную проблему и ускорить выпуск чипов следующего поколения.

Стоит добавить, что Intel начала производство чипов по 45-нанометровой технологии в конце прошлого года. Ими стали новые процессоры линейки Penryn, предназначенные для использования в серверах и настольных компьютеров. На 2009 год запланировано начало внедрения 32-нанометровой технологии производства процессоров. Чипы, изготовленные по этой методике, будут насчитывать до 1,9 миллиарда транзисторов.